Spécialement développé pour l'analyse du front d'onde dans des scénarios de recherche industrielle, de défense et scientifique à grande vitesse tels que les tirs volants et les champs d'écoulement, il possède une résolution ultra-haute de 420 × 420 (176 400) points de phase, une réponse à large spectre de 400 à 1 100 nm, et 107 images d'échantillonnage à grande vitesse, fournissant un outil de mesure de détection de front d'onde idéal pour la détection de la rugosité de la surface des plaquettes, la mesure de la micromorphologie des substrats à base de silicium et de verre, l'aérodynamique optique, champ d'écoulement à grande vitesse, mesure de la densité du plasma gazeux, etc.
FIS4-HS ultra-rapidecapteur d'interférence à quatre ondescombine la technologie brevetée de diffraction à quatre ondes codées aléatoirement avec une caméra haute vitesse et interfère au niveau de la position du plan d'image arrière. Il a de faibles exigences en matière de cohérence de la source lumineuse et ne nécessite pas de déphasage. Les systèmes d'imagerie ordinaires peuvent réaliser des mesures d'interférence. Il présente une résistance aux vibrations ultra-élevée, une stabilité ultra-élevée et une imagerie ultra-rapide. Il peut réaliser une mesure de précision au niveau nm sans isolation vibratoire.
Principales caractéristiques
◆ Ultra haute résolution de 420 × 420 (176 400) points de phase
◆ Fréquence d'images d'échantillonnage jusqu'à 107 ips
◆ Auto-interférence lumineuse à trajet unique, aucune lumière de référence requise
◆ Bande à large spectre de 400 nm à 1 100 nm
◆ Résolution de phase élevée de 2 nm RMS
◆ Résistance aux vibrations extrêmement forte, pas besoin d'isolation optique des vibrations
◆ Construction de chemin optique simple et rapide comme l'imagerie
◆ Support faisceau collimaté, grand faisceau convergent NA
Application du produit
Détection de rugosité de surface de plaquette, mesure de micromorphologie de substrat de verre à base de silicium, optique aérodynamique, champ d'écoulement à grande vitesse, mesure de densité de plasma gazeux.
